J. Colloid Interface Sci.：電紡納米結構的Co3O4/BiVO4復合薄膜在光電化學應用方面的研究

在這項工作中，研究者采用簡單易行的電紡絲法制備了Co₃O₄/BiVO₄ (Co/BiV)基納米光陽極膜，并采用多種手段對其進行了表征。結果表明，該薄膜具有網狀結構，由BiVO₄和Co₃O₄納米結構組成。在0.25 V vs照射下，采用光陽極對雙酚a (BPA)進行光化學降解。Co/BiV膜PEC性能得到改善歸因于其p-n異質結和PMS的協同作用，有效地抑制了光電產生的電子空穴對的重組。因此，PMS輔助Co/BiV薄膜是PEC在環境凈化領域應用具有很大的潛力。

　　論文題目：Electrospun nanostructured Co₃O₄/BiVO₄composite films for photoelectrochemical applications

　　作者：Xu Zhao，etc.

　　上線時間：21 December 2018

　　論文鏈接：https://doi.org/10.1016/j.jcis.2018.12.081