DOI:10.1016/j.chemosphere.2020.129311
保護皮膚細胞免受強烈紫外線（UV）的傷害是一個值得關注的問題，并且需要立即引起注意。研究人員正在致力于探索出相應的策略，以盡量減少對皮膚細胞造成不利影響的因素。在此，研究者合成了核-殼或反核-殼結構的氧化鋅（ZnO），其中二氧化硅分別在纖維素納米纖維（CNF）表面上合成殼或核。這兩種情況均表現出較高的紫外線阻隔性能，同時也減輕了增白效果，因為這些顆粒保留了化妝品行業所青睞的納米級尺寸。值得注意的是，這些納米結構顯示出的光催化活性低于原始ZnO納米顆粒。經研究發現反核@殼/CNF中ZnO的光催化活性比核@殼/CNF的光催化活性受到更大的抑制，這表明它是一種在自由基退出粒子之前中和或清除自由基的適當結構。上述研究結果表明，減少核@殼/CNF和反核@殼/CNF納米結構誘導的光催化作用是化妝品行業中護膚品的一項很有前途的策略。
圖1.不同放大倍率下的顯微分析（SEM和TEM），例如（a-b）原始ZnO納米顆粒和ZnO@CNF雜化物，以及（c-e）CNF表面上不同放大倍率的核@殼結構以及EDX分析，（f）二氧化硅@CNF和（g-i）CNF表面上不同放大倍率的反核@殼粒子以及EDX分析。
圖2.（a）XRD結構：原始ZnO納米粒子；反核@殼/CNF：首先，將二氧化硅附著在CNF表面上，然后是ZnO納米粒子；核@殼/CNF：首先，將ZnO附著在CNF和原始CNF表面上，然后是二氧化硅。（b）在2wt％的濃度下表觀粘度與剪切速率的關系。
圖3.（a）在0.1mg/mL和0.2mg/mL下，反核@殼/CNF、核@殼/CNF、ZnO@CNF、原始ZnO納米粒子、二氧化硅@CNF和原始CNF的紫外吸收光譜。（b）在280nm和340nm波長下的UV吸收匯總。
圖4.（a）CNF，（b）二氧化硅@CNF，（c）ZnO納米粒子，（d）核@殼/CNF，（e）反核@殼/CNF在556nm處的RhB溶液吸收光譜以及（f）在不同紫外線照射時間下RhB的C/Co（％）。插圖顯示了紫外線輻射后降解的RhB溶液的照片。請注意，即使核@殼和反核@殼經受了3,600s的紫外線照射后，RhB也沒有消耗。
圖5.（a-b）紫外線照射1800s后，核@殼/CNF和反核@殼/CNF的自降解吸收光譜。
微信二維碼
