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    山東大學高寶玉&amp;王志寧J. Mater. Chem. A:石墨相氮化碳(g-C3N4)基膜用于高級分離

    2020-09-15   易絲幫

    DOI: 10.1039/D0TA06729F

    由重復的三均三嗪單元組成的石墨碳氮化物(g-C3N4)近年來在膜基技術領域引起了極大的關注。g-C3N4由于其獨特的化學多功能性、固有的多孔性、高穩定性和資源豐富性,被廣泛應用于構建各種功能膜以滿足不同的分離需求。本文概述了合成超薄g-C3N4基膜的先進策略,例如過濾輔助涂層、共混、界面聚合、浸涂、靜電紡絲和三維印刷。然后,重點介紹了g-C3N4膜在水處理(淡化和去除污染物)、氣體分離和全蒸發中的代表性應用。最后,還指出了g-C3N4基膜的當前挑戰和未來前景,以激發高性能分離膜的發展。

     

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    圖1.g-C3N4的兩個基本結構單元:(a)庚嗪基和(b)三嗪基結構。


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    圖2.關于g-C3N4膜整個研究的出版物和引用數。主題關鍵字設置為[“g-C3N4膜”或“石墨氮化碳膜”]。


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    圖3.g-C3N4片材的AFM和TEM圖像。


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    圖4.將g-C3N4摻入膜中的三種方法:(a)薄膜納米復合材料(TFN)膜,(b)g-C3N4/聚合物復合膜,以及(c)在基材頂部組裝g-C3N4的膜。


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    圖5.(a)g-C3N4 NT/rGO復合膜的制備過程示意圖。(b)g-C3N4 NT/rGO膜的俯視圖和橫截面SEM圖像,以及該膜的AFM圖像。(c)g-C3N4層壓膜的俯視圖和橫截面SEM圖像。


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    圖6.g-C3N4/Fe-POMs膜的制備過程示意圖。


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    圖7.Au/g-C3N4/GO自支撐膜。(a)光學照片,(b)俯視SEM圖像,(c)橫截面SEM圖像和(d)可回收SERS功能的示意圖。


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    圖8.(a)SA混合g-C3N4膜的合成方案,(b)熱穩定性和(c)力學性能。


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    圖9.基于g-C3N4的混合基質膜的創新設計策略。(a)通過LSMM輔助混合法制備的g-C3N4基膜的俯視SEM圖像。(b)磁感應冷凍澆鑄法的示意圖。(c)Fe3O4/g-C3N4/PVDF膜的元素圖譜。


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    圖10.g-C3N4(表示為gCN)和酸化的g-C3N4(表示為aCN)之間的差異示意圖:(a)TEM圖像,(b)尺寸分布。


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    圖11.CF/g-C3N4布。(a)制備過程示意圖,(b)俯視SEM圖像,(c)串聯的七個用于去除RhB的光催化反應器,以及(d)光催化反應器中RhB的降解效率。


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    圖12.g-C3N4涂覆Al2O3膜。(a)靜電紡絲裝置的設計示意圖,(b)滲透通量,(c)油截留率和(d)循環測試。


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    圖13.g-C3N4膜在超濾中的應用。(a)光電催化過程的示意圖,(b)捕獲熒光強度的羥基自由基,以及(c)g-C3N4/CNTs/Al2O3膜的苯酚去除效率。(d)在BSA過濾測試中,Ag/g-C3N4改性膜的通量值,(e)通量恢復率和(f)總污染率。


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    圖14.g-C3N4膜在納濾中的應用。(a)通過g-C3N4層壓板的水傳輸示意圖。(b)在AAO基板上的g-C3N4層壓板的橫截面SEM圖像。(c)g-C3N4層壓板取決于厚度的透水性和EB截留率。(d)g-C3N4層壓板對不同分子的分離性能。(e)在不同pH環境下,g-C3N4層壓板的透水性和g-C3N4納米片溶液的ζ電位。(f)g-C3N4層壓板的壓力依賴性水滲透性。(g)g-C3N4/Fe-POMs膜的分離性能,(h)可重復使用性和(i)長期穩定性。


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    圖15.用于油/水分離的g-C3N4基膜。(a)油/水分離實驗中g-C3N4基膜的通量值。(b)g-C3N4基膜的循環測試。(c)原始g-C3N4基膜的FTIR光譜,該膜粘附有大豆油,隨后經模擬的陽光照射。


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    圖16.g-C3N4膜在氣體分離中的應用。(a)通過ZIF-8/g-C3N4膜的單一氣體滲透率與動力學直徑的函數關系。插圖顯示了理想的氣體選擇性和對H2的Knudsen選擇性超過其他氣體。(b)中空多孔g-C3N4納米球基膜的NO去除效率和(c)可重復使用性。(d)黑磷/g-C3N4-MOF膜的NO去除效率,(e)可重復使用性和(f)電子自旋共振(ESR)光譜。


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